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रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)

रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)
रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)

रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD) Specification

  • मॉडल नं
  • CVD-8854996
  • मुख्य घटक
  • Reaction Chamber, Gas Flow System, Temperature Controller, Vacuum Pump, Power Supply
  • सटीकता
  • ±1°C
  • माप सीमा
  • Dependent on Sensor Configuration
  • फ़्रिक्वेंसी
  • 50/60 Hz
  • वोल्टेज
  • 240 वोल्ट (v)
  • रंग
  • सफेद और नीला
  • ऑटोमेशन ग्रेड
  • Semi-automatic / Automatic (on request)
  • क्षमता
  • Custom build – various chamber sizes available
  • तापमान सीमा
  • Ambient to 1200°C
  • मटेरियल
  • एमएस
  • फ़ीचर
  • High Precision Temperature Control, Uniform Deposition, Safety Interlocks
  • उपयोग
  • औद्योगिक
  • पावर सोर्स
  • Electric
  • उपकरण सामग्री
  • Mild Steel (MS), Quartz Glass, Stainless Steel (for inner chamber)
  • टाइप करें
  • Chemical Vapour Deposition System (CVD)
  • डिस्प्ले टाइप
  • Digital Display
  • आयाम (एल* डब्ल्यू* एच)
  • 1200 x 600 x 750 mm (approximate)
  • वज़न
  • Approx. 100 kg (varies based on configuration)
 

रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD) Trade Information

  • Minimum Order Quantity
  • 1 Unit
  • डिलीवरी का समय
  • 7 दिन
 

About रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)


रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)

Price 650000 आईएनआर/ Unit

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