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रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)
रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD) उत्पाद की विशेषताएं
- उपयोग
- औद्योगिक
- सटीकता
- ±1°C
- माप सीमा
- Dependent on Sensor Configuration
- पावर सोर्स
- Electric
- मुख्य घटक
- Reaction Chamber, Gas Flow System, Temperature Controller, Vacuum Pump, Power Supply
- मॉडल नं
- CVD-8854996
- मटेरियल
- एमएस
- फ़ीचर
- High Precision Temperature Control, Uniform Deposition, Safety Interlocks
- तापमान सीमा
- Ambient to 1200°C
- रंग
- सफेद और नीला
- फ़्रिक्वेंसी
- 50/60 Hz
- वोल्टेज
- 240 वोल्ट (v)
- ऑटोमेशन ग्रेड
- Semi-automatic / Automatic (on request)
- क्षमता
- Custom build – various chamber sizes available
- उपकरण सामग्री
- Mild Steel (MS), Quartz Glass, Stainless Steel (for inner chamber)
- टाइप करें
- Chemical Vapour Deposition System (CVD)
- डिस्प्ले टाइप
- Digital Display
- आयाम (एल* डब्ल्यू* एच)
- 1200 x 600 x 750 mm (approximate)
- वज़न
- Approx. 100 kg (varies based on configuration)
रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD) व्यापार सूचना
- Minimum Order Quantity
- 1 Unit
- डिलीवरी का समय
- 7 दिन
About रासायनिक वाष्प जमाव प्रणाली (CVD)
Price 650000 आईएनआर/ Unit
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मेट्रेक्स साइंटिफिक इंस्ट्रूमेंट्स प्राइवेट लिमिटेड लिमिटेड
GST : 07AAACM0005C1ZF
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WH-20, मायापुरी औद्योगिक क्षेत्र, चरण-1,नई दिल्ली - 110064, भारत
फ़ोन :08045478202
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